25 Treffer, zeige 11 bis 20:
MCVD-Verfahren Schlagwort sensu stricto
 4257365-8
Ionenplattieren Schlagwort sensu stricto
 4162334-4
Elektronenstrahlverdampfen Schlagwort sensu stricto
 4476434-0
Cat-CVD-Verfahren Schlagwort sensu stricto
 4673183-0
Reaktives Sputtern Schlagwort sensu stricto
 7625528-1
Hydridgasphasenepitaxie Schlagwort sensu stricto
 7848286-0
LPCVD-Verfahren Schlagwort sensu stricto
 4277965-0
Gasphasenimprägnierung Schlagwort sensu stricto
 4280571-5
Gasflusssputtern Schlagwort sensu stricto
 113139111X
Hochleistungsimpulsmagnetronsputtern Schlagwort sensu stricto
 1100314156
NRW-Wappen   lobid-gnd | ein Dienst des hbz Gewährleistung | Impressum | Datenschutz | Mastodon  GitHub  Blog