URI | https://d-nb.info/gnd/130189340 |
Entitätstyp | Individualisierte Person |
GND-Nummer | 130189340 |
Beruf oder Beschäftigung | Chemikerin |
Akademischer Grad | Dr. rer. nat. |
Ländercode | Indien |
Geschlecht | Weiblich |
Geburtsdatum | 1977 |
Geburtsort | Bombay |
Titelangabe | Precursors for metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) of ZrO2 and HfO2 thin films as gate dielectrics in complementary metal-oxide-semiconductor (CMOS) devices |
Siehe auch |